Technology

저작권보호정책

저작권 보호정책의 목적

본 정책의 목적은 ‘천마총발굴50년’ 홈페이지에서 제공하는 정보가 정보 출처를 밝히지 않고 무단 사용, 변조, 상업적인 용도 등으로 이용되는 사례를 방지하기 위함입니다.

저작권 보호 및 정책

‘천마총발굴50년’ 홈페이지에서 제공하는 모든 자료는 저작권법 등 관련 법규에 따라 보호받는 저작물로 무단으로 복제, 배포할 경우 저작권 침해에 해당하며(저작권법 제136조(벌칙)) 위 사항을 원칙적으로 금하고 있습니다. 이에 이용자는 허가되지 않은 자료를 무단으로 사용할 수 없으며 관련 법규와 공공저작물 이용 방법을 준수해야 합니다.

특히 ‘천마총발굴50년’ 홈페이지에서 개방 중인 자료 중 천마총발굴50년이 저작권 전부를 소유하지 아니한 자료(다른 저작권과 저작재산권을 공유한 자료, 저작물 이용허락만 받은 자료 등)가 함께 게시되어 있습니다. 위 경우에는 제3자의 권리가 포함되어 있는 자료들로 저작물 이용에 엄격한 제한을 두고 있습니다. 따라서 단순 열람 외에 무단 변경, 복제ㆍ배포, 개작 등의 이용은 금지되며 이를 위반할 경우 관련법에 의거 법적 처벌을 받을 수 있음을 알려드립니다.

저작권 이용 내역

홈페이지에 사용된 이미지 중 일부는 ’천마총발굴50년‘에서 '2022년' 작성하여 공공누리 제1유형으로 개방한 '천마총_목곽내부’(작성자: 천마총발굴50년 홈페이지 담당자)'를 이용하였으며, 해당 저작물은 '문화재청 국가문화유산포털’, http://www.heritage.go.kr‘에서 무료로 다운받으실 수 있습니다.

공공저작물의 4가지 유형은 문화체육관광부 공공누리 사이트 (https://www.kogl.or.kr/info/license.do) 에서 확인할 수 있습니다.

공공저작물 4가지 유형
  • 제1유형 : 출저표시
    1. - 출처표시
    2. - 상업적, 비상업적 이용가능
    3. - 변형 등 2차적 저작물 작성 가능
  • 제2유형 : 출처표시 + 상업적 이용금지
    1. - 출처표시
    2. - 비상업적 이용가능
    3. - 변형 등 2차적 저작물 작성 가능
  • 제3유형 : 출처표시 + 변경금지
    1. - 출처표시
    2. - 상업적, 비상업적 이용가능
    3. - 변형 등 2차적 저작물 작성 금지
  • 제4유형 : 출처표시 + 상업적 이용금지 + 변경금지
    1. - 출처표시
    2. - 비상업적 이용만 가능
    3. - 변형 등 2차적 저작물 작성 금지
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Technology 02

POWDER ALD

나노소재 성능 향상
  1. ·소재의 코팅 방법 ▶ 습식 코팅과 건식 코팅 (CVD) ▶ 상대적 코팅 두께 두꺼움
  2. ·나노 파우더 소재의 코팅 두께가 두꺼워지면, 원소재의 특성이 현저하게 떨어짐
  3. ·따라서, 박막 수준의 얇고 높은 코팅 균일성 필요, ALD방식이 문제점 해결가능
Agitation simulation
  1. ·Side purge & Source injection simulation
  2. ·유량별 Side purge simulation을 통해 최적화 유체 모델 선정 완료
Pumping 개선
  1. ·Pumping screen & agitation 기능으로 뭉침 문제점 해결 가능
  2. ·Agitation & 상향식 Source injection 기능으로 양산화 규모 증착 가능(특허)
Powder ALD 특징
  • 빠른 공정속도 및
    코팅 Uniformity 확보

  • 상향식 Source 공급과
    Side purge로 Agitation 효과 발현

    관련 특허 등록 10-2131956,
    10-2139298 및 출원 10-2021-0125712

  • 직접적 Heating으로
    열 전달 효과 극대화

  • Powder holder 탈착이
    편리한 구조로 양산 생산 가능성 확보